Intel объявила о завершении расширения фабрики D1X-Mod3 в Орегоне

Intel продолжает заниматься расширением и возведением новых производственных линий для увеличения количества выпускаемой продукции, поэтому официально объявила о завершении расширения фабрики D1X-Mod3 в Орегоне, США. Новая производственная линия Mod3 является расширением уже существующей фабрики D1X, которая, помимо прочего, увеличила площадь чистых помещений на 25 тысяч квадратных метров.

Увеличение чистых помещений позволит ускорить разработку новых технологических процессов, таких как Intel 20A и Intel 18A. Они и являются главной целью увеличения производственных помещений. Напоминаем, что компания планирует изучить пять технологических норм за четыре года, для чего компании потребуется приложить немало усилий, чтобы вписаться в установленные сроки.

Также на просторах новых помещений работники компании будут работать над транзисторами нового поколения RibbonFET и технологией подведения питания с тыльной стороны PowerVia. Компания планирует использовать расширение для установки оборудования с применением EUV-литографии с высокой числовой апертурой, такого как ASML TWINSCAN EXE:5200.

«С момента своего основания корпорация Intel неустанно продвигала закон Мура. Это новое производственное помещение укрепит наши возможности по реализации плана, необходимого для поддержки нашей смелой стратегии IDM 2.0. Орегон долгое время был центром наших глобальных исследований и разработок в области полупроводников, и я не могу придумать лучшего способа почтить наследие Гордона Мура, чем дать его имя этому университетскому городку, который, как и он, сыграл огромную роль в развитии нашей отрасли», – Пэт Гелсингер (Pat Gelsinger), генеральный директор Intel.