Китайский стартап показал прототип источника излучения для EUV-литографии

На 26-й Китайской международной промышленной выставке в Шанхае стартап Langdao Silex показал прототип самостоятельно разработанного источника EUV-излучения под названием FlintNano LPP-OXXO. Это один из ключевых компонентов EUV-литографии, и, по заявлению компании, около 90% основных узлов удалось создать собственными силами.

Источник использует плазму, получаемую с помощью лазера, то есть полагается на тот же подход, что и ASML. Мощность лазера составляет 1 000 Вт, частота повторения от 1 до 20 kHz, а эффективность преобразования превышает 2%. Мощность EUV-излучения достигает 15 Вт и выше, непрерывная работа возможна более 100 часов. В компании уверяют, что система уже пригодна для тестовой работы.

Правда, до массового производства, которое и станет полноценной проверкой, по оценке самого стартапа, нужно ещё как минимум 3-5 лет, и это, судя по всему, самый оптимистичный срок, который, вероятнее всего, растянется до 8-10 лет. Помимо источника света, для готового литографа потребуются прецизионная оптика, столики для пластин и сложная интеграция, и самостоятельно создать их будет проблемой. Это проблема и для ASML, поэтому она предпочитает закупать компоненты более чем у 800 партнёров.