Скоро может настать дефицит фотошаблонов для создания процессоров

Создание микросхем требует большого количества усилий и компонентов, среди которых критически важным является фотошаблон, представляющий собой прозрачную пластинку из кварца с нанесенным на неё изображением, которым и является будущая микросхема.

Проблема лишь в том, что повышенный спрос на фотошаблоны постоянно увеличивается, в том числе из-за появления новых полупроводниковых компаний в Китае, что привело к максимальной загруженности производственных линий мировых производителей, таких как Toppan, Photronics и Dai Nippon Printing. Сейчас они с трудом способны выполнить все заказы, но в ближайшем будущем их мощностей перестанет хватать в принципе.

Это может привести к тому, что стоимость заказов будет увеличиваться, как и время их выполнения, негативно влияя на разработку новых комплектующих, а также увеличивая их финальную стоимость. Если вспомнить о необходимости почти в 100 шаблонах для создания одного современного процессора, создающегося с применением EUV-литографии, то ожидание и стоимость увеличатся весьма заметно.