Canon Nanoimprint Litho для создания микросхем будет в разы дешевле аналогов от ASML

В прошлом месяце Canon показала свой инструмент для создания полупроводников Nanoimprint Litho, ориентированный для работы с 5-нм технологическим процессом. Оказывается, он сможет существенно повлиять на бизнес голландского монополиста в лице ASML, который единственный в мире занимается поставками оборудования для работы с EUV-литографией.

Если инструменты для создания полупроводников от ASML обходятся партнерам примерно в $150 миллионов, то в случае нового инструмента от Canon партнерам придется отдавать значительно меньшую сумму. Конкретное число в отчете не говорится, но упоминаются слова президента компании, утверждающего об “исключении одной цифры от стоимости EUV-литографии TSMC".

Если Canon действительно будет предлагать свой инструмент для создания полупроводников по столь низкой цене, то у ASML появятся серьезные проблемы. С другой стороны, сканеры обеих компаний работают по разному принципу, поэтому какие-то партнеры смогут обратить внимание на Canon, а любители сорить деньгами смогут продолжать пользоваться ASML.