TSMC поделилась свежей информацией о техпроцессах N4X, N3P, N3E, N3AE и N2

TSMC продолжает разрабатывать новые технологические нормы для улучшения характеристик полупроводниковой продукции. Свежей информацией относительно своей деятельности компания решила поделиться на недавно проведенной в Японии конференции, рассказав на ней об N4X, N3P, N3E, N3AE и N2.

N4X входит в класс 5-мм технологических норм и сможет предложить увеличение тактовой частоты на 17% и плотности размещения транзисторов на 6% по сравнению с N5, выпущенным 3 года назад. Если улучшение тактовой частоты приличное, то улучшение плотности выглядит не слишком впечатляюще.

N3P, в свою очередь, входит в класс 3-нм технологических норм и покажет 5% улучшение тактовой частоты, 5-10% улучшение энергоэффективности и 4% увеличение плотности по сравнению с N3E, а сам N3E уже прошел техническую сертификацию и поступит в массовое производство во второй половине этого года. N3AE предназначен для автомобильного рынка, поэтому будет доступен только для создания автомобилей с автономным вождением.

N2, первый техпроцесс TSMC с применением нового типа транзисторов GAAFET, сможет предложить до 15% большую скорость работы, до 30% лучшее энергосбережение и на 15% лучшую плотность по сравнению с N3E, а его массовое применение ожидается в 2025 году.

Также представитель компании рассказал, что за прошлый год она инвестировала $5.472 млрд в развитие новых технологий, при этом количество работяг на всех фабриках и исследовательских центрах увеличилось до 8558 человек.