Samsung начала поставки оперативной памяти с использованием EUV-литографии

Samsung стала первой компанией в мире, которая своими производственными мощностями изготовила и начала поставки партнерам DDR4 оперативной памяти с использованием экстремального ультрафиолетового излучения (EUV).

Чипы оперативной памяти изготавливаются по 10-нм техпроцессу. EUV-литография позволяет уменьшить количество повторяющихся шагов в создании шаблонов, что позволяет производить больше памяти за тот же промежуток времени.

«Выпуская нашу новую DRAM на основе EUV, мы демонстрируем нашу полную приверженность предоставлению революционных решений DRAM для поддержки наших глобальных ИТ-клиентов. Это важное достижение подчеркивает, как мы будем продолжать вносить свой вклад в глобальные ИТ-инновации путем своевременного развития передовых технологических процессов и продуктов памяти следующего поколения для рынка памяти премиум-класса», - Юнг-Ба Ли (Jung-bae Lee), исполнительный вице-президент DRAM Product & Technology в Samsung Electronics.

Стоит отметить, что не все слои чипов оперативной памяти производятся путем использования экстремального ультрафиолетового излучения. Большая часть по-прежнему изготавливается при помощи ультрафиолетовой литографии (DUV), а вот следующее поколение оперативной памяти, производство которой Samsung планирует запустить в следующем году, будет полностью изготавливаться путем использования экстремального ультрафиолетового излучения.